Un­se­re For­schungs­ak­ti­vi­tä­ten auf dem Ge­biet der Plas­ma­dia­gnos­tik be­fas­sen sich mit der schnel­len und ge­nau­en Be­stim­mung der Elek­tro­nen­dich­te in Nie­der­druck­plas­men. Das ein­ge­setz­te Ver­fah­ren, die ak­ti­ve Plas­ma­re­so­nanz­spek­tro­sko­pie, be­ruht auf der elek­tri­schen An­re­gung räum­lich lo­ka­li­sier­ter hoch­fre­quen­ter Plas­ma­schwin­gun­gen im Be­reich von 1-6 GHz. Ba­sie­rend auf dem Prin­zip der so­ge­nann­ten Mul­ti­pol-Re­so­nanz-Son­de wer­den dazu ver­schie­de­ne Dia­gnos­tik­kon­zep­te ent­wi­ckelt. Als Mess­ver­fah­ren kom­men die Time Do­main Re­flec­to­metry (TDR) und die Fre­quen­cy Mo­du­la­ted Con­ti­n­uous Wave (FMCW) Tech­nik zum Ein­satz. Die Aus­wer­tung der damit ge­mes­se­nen Re­so­nanz­spek­tren er­folgt unter Ein­satz spe­zia­li­sier­ter Ver­fah­ren der schnel­len di­gi­ta­len Si­gnal­ver­ar­bei­tung. Das Kon­zept ist kon­ta­mi­na­ti­ons­frei, ro­bust und er­laubt eine hoch­prä­zi­se Mes­sun­gen, die in-si­tu aus­ge­wer­tet wer­den kann. Da­durch und wegen sei­ner ge­rin­gen Kos­ten in Bezug auf In­ves­ti­ti­on und Un­ter­halt ist es be­son­ders in­ter­es­sant für die Über­wa­chung und Re­ge­lung tech­ni­scher Plas­ma­pro­zes­se in der in­dus­tri­el­len Pro­duk­ti­on funk­tio­na­ler op­ti­scher Schich­ten.