Ausstattung

Unsere Reinräume


Der Lehrstuhl für Mikrosystemtechnik verfügt über Anlagen zur Präparation von Halbleitermikro- und -nanostrukturen.
Dazu gehören unter anderem:

Mask-Aligner
Heizplatten
Oxidationsöfen
Plasmaverascher
Lackschleuder
Laserlithografiesystem (Strukturbreiten > 600 nm)
Rasterelektronenmikroskop / Elektronenstrahllithografiesystem
Inertgasglovebox mit Lackschleuder und Ozone Cleaner
Plasmaätzanlage (ICP-RIE)    
Aufdampfanlagen
Wafersägen
Plasmabeschichtungsanlage (ICPECVD)
Temperanlagen
Ritzgerät

Präparationsbegleitend werden die Bauelemente und Systeme mit folgenden Geräten charakterisiert:

  •   optische Mikroskope
  •   Ellipsometer
  •   Interferenzmikroskop
  •   Konfokalmikroskop
  •   Rastersondenmikroskope (AFM, MFM)
     

Für magnetfeldabhängige und temperaturabhängige Messungen stehen mehrere Kryostate (Temperaturbereich: 300 mK bis 500 K) und Elektromagnete und supraleitende Magnete (bis 17 T) zur Verfügung. Die elektrische Charakterisierung erfolgt mittels Semiconductor Parameter Analyzern, Lock-In Technik (bis f = 200 MHz) und Kapazitäts-Spannungs-Messgeräten.