2022
[1]
T. Berning u. a., „Nucleation and growth studies of large-area deposited WS2 on flexible substrates“, Materials Research Express, Bd. 9, Nr. 11, Art. Nr. 116401, 2022, doi: 10.1088/2053-1591/ac9bd0.
2021
[1]
S. Beer u. a., „A study on the influence of ligand variation on formamidinate complexes of yttrium: new precursors for atomic layer deposition of yttrium oxide“, Dalton transactions, Bd. 50, Nr. 37, S. 12944–12956, Juli 2021, doi: 10.1039/d1dt01634b.
[2]
N. Boysen u. a., „Atomic layer deposition of dielectric Y2O3 thin films from a homoleptic yttrium formamidinate precursor and water“, RSC Advances [ISSN: 2046-2069], Bd. 11, Nr. 5, S. 25652574, Jan. 2021, doi: 10.1039/d0ra09876k.
[3]
M. Becher u. a., „Raman spectroscopy as an effective tool for characterizing large-area 2D TMDs deposited from the gas phase“, in MikroSystemTechnik Kongress 2021, Stuttgart-Ludwigsburg, 2021, S. 498–501. [Online]. Verfügbar unter: https://ieeexplore.ieee.org/document/9698353
[4]
T. Berning, S. Beer, N. Boysen, A. Devi, und C. Bock, „Electrical properties of functional Y2O3 films applied to thin film transistors“, in MikroSystemTechnik Kongress 2021, Stuttgart-Ludwigsburg, 2021, S. 723–726.
2020
[1]
T. Berning, J.-L. Wree, A. Devi, und C. Bock, „Strukturierung von großflächig abgeschiedenen übergangsmetall-Dichalkogenid Filmen für den Einsatz in der 2D-Elektronik“, in Mikro-Nano-Integration, 2020, Neuerscheinung., Bd. 97, S. 37–41.
2019
[1]
J.-L. Wree, T. Berning, C. Bock, und A. Devi, „Chemische Gasphasenabscheidung von 2D Übergangsmetall Dichalkogeniden für mikroelektronische Anwendungen“, in MikroSystemTechnik Kongress 2019, Berlin, 2019, S. 56–59.
[2]
C. Bock, E. Subasi, T. Berning, D.-V. Pham, und U. Kunze, „Graphen-Elektroden für den Einsatz in Metalloxid-Dünnfilmtransistoren“, in MikroSystemTechnik Kongress 2019, Berlin, 2019, S. 142–145.
