Die Ruhr-Universität Bochum freute sich vergangene Woche über den Besuch von hochrangigen japanischen Wissenschaftlern und führenden Plasmaforschern sowie Mikrotechnologen aus Deutschland und den Niederlanden, welche am 1. Deutsch-Japanischen Plasma-Processing Workshop für fortgeschrittene Mikroelektronik teilnahmen.
Hier der Link zur PPW2025 Website.

Nicht-thermische Plasmen (ionisierte Gase, welche oft als vierter Aggregatzustand bezeichnet werden) sind wichtiger Bestandteil bei der Herstellung von Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik, die die Umsetzung des Moore'schen Gesetz und More than Moore Technologien ermöglichen. Die Plasmabearbeitung erfolgt bei sehr niedrigem Druck (entsprechend einer Höhe von etwa 90 km über der Erdoberfläche) und unter äußerst sauberen und kontrollierten Bedingungen. Die wissensbasierte Kontrolle der Plasmaparameter wird umso wichtiger, je kleiner die Strukturen werden.

Der Workshop diente vor allem dem lebendigen Austausch zwischen Plasmaphysikern, Materialwissenschaftlern und Mikrotechnologen, welche die gesamte Wertschöpfungskette vom Material bis zur Applikation abbilden. Der Workshop war der Auftakt zu weiteren internationalen Workshops im Rahmen des Aspire Programms „Establishment of International Collaboration Networks for Advanced Atomic-Layer Processing” (Grant Number JPMJAP2321)und bietet die Chance, durch intensiven Austausch der Disziplinen Grundlagenwissen schneller in die Industrie zu bringen.

Hier der Link zur Pressemitteilung der RUB:
https://news.rub.de/hochschulpolitik/2025-02-14-internationalisierung-massgeschneiderte-plasmen-fuer-die-zukuenftige-mikroelektronik