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1994
[1]
J. Oehm, ‘Differenzverstärker’, 4443286
[2]
J. Oehm, ‘Differenzverstärker’, 4443286 [Online]. Available: https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=19960613&DB=&locale=de_EP&CC=DE&NR=4443286A1&KC=A1&ND=4#
[3]
J. Oehm, ‘Schaltungsanordnung für einen Verstärker’, 9400569
[4]
J. Oehm, ‘Schaltungsanordnung für ein Filter’, 9400546
[5]
J. Oehm, E. Brass, and K. Schumacher, ‘Produktionsbegleitende Erfassung des Matchingverhaltens integrierter MOS Transistoren’, in Entwicklung von Analogschaltungen mit CAE-Methoden: Teil: 3., Mit dem Schwerpunkt Modellierung und Simulation analoger Funktionsblöcke, Bremen, 1994, Published.
1993
[1]
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[2]
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[3]
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1992
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[2]
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[3]
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[4]
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J. Oehm and K. Schumacher, ‘Modellierung und Simulation des Sreuverhaltens integrierter Bauelemente unter Ausbeute- und EMV-Aspekten’, in Tagungsband der GME/ITG Diskussionssitzung Entwicklung von Analogschaltungen mit CAE-Methoden, Paderborn, 1991, Published.
[3]
C. Heite and J. Oehm, ‘Rechnergestützte Stabilitätsanalyse nichtlinearer Analogschaltungen mit dem Popov-Verfahren’, in Tagungsband der GME/ITG Diskussionssitzung Entwicklung von Analogschaltungen mit CAE-Methoden, Paderborn, 1991, Published.
1989
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J. Oehm, K. Schumacher, and K. F. Goser, ‘Robuster Analogentwurf bei sehr feinen CMOS-Strukturen’, in Mikroelektronik für die Informationstechnik, Stuttgart, 1989, vol. 110, pp. 113–117.
1988
[1]
J. Oehm, ‘Schaltbare lineare verlustarme Ausgangstreibersysteme in CMOS und BICMOS’, in Mikroelektronik für die Informationstechnik, Berlin, 1988, vol. 103, pp. 191–195.
[2]
J. Oehm and K. Schumacher, ‘MOS-DIM, ein Dimensionierungsprogramm für analoge VLSI-Komponenten’, in CAD-Werkzeuge für analoge Schaltungen, München, 1988, Published.
Undefined
[1]
D. V. Jürgen Oehm and J. Oehm, ‘Temperaturkompensation von MOS-Transistoren’
[2]
J. Oehm, ‘Arrangement with a capacitor which can be connected into a circuit and disconnected therefrom and associated method’
[3]
J. Oehm, ‘Semiconductor component with integrated capacitance structure having a plurality of metallization planes’
